Tiub seramik Aln dalam persekitaran yang menghakis
Tiub seramik aluminium nitrida (ALN) menunjukkan rintangan kakisan yang luar biasa, tetapi prestasi mereka bergantung kepada keadaan alam sekitar dan kesucian bahan:
Kelebihan utama
Kekurangan kimia
Menentang asid (HCl, HNO₃) sehingga 80 darjah dan alkali (NaOH) di bawah 40 darjah -Superior ke logam tetapi sedikit kurang teguh daripada al₂o₃ dalam pangkalan yang kuat.
Kekebalan terhadap kakisan gas halogen (CL₂, F₂) dalam etchers plasma semikonduktor (sehingga 600 darjah).
Rintangan pengoksidaan
Forms a protective Al₂O₃ surface layer at >800 darjah di udara, melambatkan degradasi lebih lanjut.
Rintangan logam cair
Stabil dalam aluminium cair (660 darjah) dan tembaga (1085 darjah), mengalahkan kuarza dan grafit.
Batasan & Mitigasi
Poor performance in hot concentrated acids (e.g., H₂SO₄ >200 darjah) → Gunakan ALN bersalut SIC untuk keadaan yang melampau.
Slow hydrolysis in steam >400 darjah → Sapukan salutan y₂o₃ untuk persekitaran yang kaya dengan stim.
Aplikasi teratas
Semikonduktor: Komponen Etcher Plasma
Metalurgi: Sarung termokopel dalam logam cair
Pemprosesan Kimia: Perumahan Sensor untuk Media Agresif
Aln menawarkan kekonduksian terma terbaik dalam kelas + rintangan kakisan, menjadikannya sesuai untuk sistem industri dan berteknologi tinggi yang keras. Rawatan permukaan yang betul memanjangkan hayat perkhidmatan melebihi 10 tahun walaupun dalam tetapan yang agresif.
Tempat membeli berkualiti tinggiTiub seramik Aln, sila lawati www.ceramicstimes.com berikut
